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产品描述
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纳米图案硅印章 |
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主要特点/优势：纳米图案硅印章 |
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这些基底可以用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（例如，中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体学等多个应用领域。如果需要，基底可以涂上金属或电介质涂层。大多数表面特征具有略呈梯形的横截面轮廓，带有直线平行台地和沟槽。也提供像格子一样的结构。有多种特征尺寸和沟槽深度可供选择。在发货前，可以采取基底的扫描电子显微镜(SEM)图像，以验证确切的轮廓。 表中显示的尺寸代表目标值。周期的准确度优于0.5%，而沟槽深度和线宽和间距可能与目标值相差15%。SEM图像仅供说明。如果需要更精确的尺寸信息，我们可以提供您所订购的特定纳米印章的SEM，作为可选服务。 |
