XUV(EUV), X-ray反射镜在极紫外光刻、高次谐波产生、阿秒科学等科研和工业领域都有重要应用。除标准产品之外，我们可以在各个方面满足订制要求，定制参数包括尺寸、形状、基底材质、镀膜等。
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产品描述
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XUV(EUV)/X-ray反射镜 |
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日本NTT-AT公司在XUV(EUV)和X-ray反射镜制造方面已经有二十年以上的技术积累和经验, 支持紫外波段和X射线波段的反射镜参数定制。XUV(EUV), X-ray反射镜在极紫外光刻、高次谐波产生、阿秒科学等科研和工业领域都有重要应用。除标准产品之外，我们可以在各个方面满足订制要求，定制参数包括尺寸、形状、基底材质、镀膜等。 |
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产品特点：
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规格参数 |
| XUV(EUV),X-ray反射镜典型参数表 | |||
| 名称 | 镀膜 | 基底材料 | 典型波长 |
| XUV(EUV)反射镜 | 多层膜镜 | Mp/Si | 50eV~100eV |
| Ru/Si | 50eV~100eV | ||
| Ar/Al | 50eV~70eV | ||
| SiC/Mg | 25eV~50eV | ||
| Cr/C | ~300eV | ||
| 单层膜镜 | SiC | 10eV~100eV | |
| Pt | |||
| Ru | |||
| X-ray反射镜 | 多层膜镜 | S/C | 1keV~30keV |
| S/B4C | |||
| Ru/C | |||
| Pt/C | |||
| 单层膜镜 | C | 1keV~30keV | |
| B4C | |||
| SiC | |||
| Cr | |||
| In | |||
